連續磁控濺射真空鍍膜設備主要用于在平板玻璃, 亞克力, PC, PET等表面鍍制高質量,高性能金屬膜,電磁屏蔽膜,反應膜,復合膜, 透明導電膜, 抗反射 (AR), 增反射膜, LOW-E等膜層. 我公司可根據客戶要求提供設計, 負責工藝, 提供全套設備。
　　單銀可鋼化LOW-E生產線是商用臥式多功能高等磁控鍍膜LOW-E生產線,我公司在國內外多名薄膜專家指導下,我們研發、設計、制造,結合國內外最新鍍膜技術,具有新型機電加工技術為一體的自主知識產權.該生產線應用了納米材料薄膜技術、真空磁控濺射技術、最新智能自動化控制總線等技術.使用了最新型的平面磁控陰極和C-MAG圓柱形濺射陰極。同一般鍍膜生產線相比，融匯了更多高新技術，有效克服了以往許多生產線的不足，顯著提高了設備的穩定性和性價比，使設備更合理更人性化。鍍膜腔室采用單元式結構，可根據不同工藝需求，可靈活地調整陰極和泵組位；陰極擋板結構，節約了更換靶材及清理工序的周期；使用了高質量國產化品牌元器件,不僅降低了設備的制造成本和使用成本，也減少了設備的故障恢復時間和成本, 進一步降低了客戶對該設備的使用成本和技術要求。

生產線特點：
(1)設備類型：臥/立式連續磁控濺射鍍膜線
(2)生產周期：60s；
(3)產能：年產量大于200萬平方米；
(4)玻璃最大規格：9000mm×2540mm；
(5)膜層均勻性：在有效沉積區域內，膜層厚度均勻性≤±5％；
(6)陰極結構：采用中頻孿生旋轉陰極，平面陰極等；
(7)設備傳動方式：采用滾輪設計；
(8)鍍膜工藝實現方式：可以實現熱反射鏡鍍膜產品、可鋼化熱反射鏡產品、單銀低輻射膜產品、雙銀低輻射膜產品和可鋼化單銀雙銀低輻射膜產品等；
(9)控制系統：控制系統能實現人、機對話，及時對生產過程進行必要干預。運行過程有報警提示和故障顯示，故障顯示能提示操作人員正確的操作和排故。